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CVD-Systeme für Carbon Nanotube-Abscheidung
Für die Deposition von Carbon-Nanomaterialien können in diesen Systemen sowohl thermische CVD- wie auch plasmagestützte Prozesse angewendet werden. Dadurch können nahezu alle möglichen Varianten und Formen von Carbon-Nanotubes/-fibers hergestellt werden.
Für die Herstellung von III-V und II-VI Nanowire-Halbleitern bietet AIXTRON Anlagen auf Basis des Close Coupled Showerhead- oder des Horizontalfluß-Konzepts an. Mit diesen Systemen können Nanowires mit scharfen Materialübergängen oder auch koaxiale Nanowires hergestellt werden.

Company
AIXTRON SE
Kaiserstr. 98
52134 Herzogenrath ()
Homepage: http://www.aixtron.com

Contact
Dr. Frank Schulte
Phone: 0241-8909-768
Fax: 0241-8909-167
Info@aixtron.com